您的位置:首页 > 快讯 > 聚焦 >

为容错光刻开辟新途径,科学家观测到非线性塔尔伯特自修复效...

来源: 中国光学快报 时间: 2021-09-16 10:46:34

▲《中国光学快报》由中国科学院上海光学精密机械研究所主办、中国激光杂志社出版

近日,《中国光学快报》以封面文章报道了一项研究:在实验中首次观测到了非线性塔尔伯特自修复效应,即从有缺陷的非线性光学结构中获得自修复的无缺陷结构图像的能力。

非线性塔尔伯特效应是一种近场光学非线性衍射现象,在高分辨成像和加工等领域更具优越性,如非线性光学显微镜、现代光刻技术、光谱分析和材料表征等。尽管当前对非线性塔尔伯特效应的研究已经取得了一些成果,但其基本性质和实际应用迄今尚未得到全面研究。

宁波大学盛艳教授与澳大利亚国立大学合作,利用强聚焦的近红外飞秒激光脉冲实现了铌酸锂晶体自发极化的周期性反转,也就是铌酸锂非线性光子晶体的全光制备。近场光学非线性衍射实验表明,在第一非线性塔尔伯特平面处的二次谐波完美再现了周期结构中缺失的格点。

该工作中所观测到的非线性塔尔伯特自修复效应为容错光刻和光学打印开辟了新的可能。在光电子工业中,集成电路元器件尺寸的不断减小,对光刻技术分辨率和制备精度提出了更高要求。周期掩模板上的任何划痕或缺陷都会限制光刻形貌的分辨率和精度。幸运的是,利用非线性塔尔伯特自修复技术可以克服这一问题,将此技术与极端紫外光源相结合是发展高分辨率容错光刻技术的有效途径。

作者:吕璇/整理

编辑:许琦敏

责任编辑:任荃

图片来源:《中国光学快报》